Wafer Safir 12 Inci kanggo Manufaktur Semikonduktor Volume Tinggi

Katrangan Cekak:

Wafer safir 12 inci iki dirancang kanggo nyukupi panjaluk sing saya tambah kanggo manufaktur semikonduktor lan optoelektronik kanthi area sing amba lan throughput dhuwur. Amarga arsitektur piranti terus berkembang lan jalur produksi pindhah menyang format wafer sing luwih gedhe, substrat safir kanthi diameter ultra-gedhe nawakake kaluwihan sing jelas ing produktivitas, optimasi hasil, lan kontrol biaya.

Kirim email menyang kita

Fitur-fitur

Diagram Rinci

Pambuka wafer safir 12 inci

Diprodhuksi saka Al₂O₃ kristal tunggal kanthi kemurnian dhuwur, wafer safir 12 inci kita nggabungake kekuatan mekanik sing apik banget, stabilitas termal, lan kualitas permukaan. Liwat pertumbuhan kristal sing dioptimalake lan pangolahan wafer sing presisi, substrat iki menehi kinerja sing bisa dipercaya kanggo aplikasi LED, GaN, lan semikonduktor khusus sing canggih.

Karakteristik Bahan

Safir (aluminium oksida kristal tunggal, Al₂O₃) misuwur amarga sipat fisik lan kimia sing luar biasa. Wafer safir 12 inci nduweni kabeh kaluwihan bahan safir nalika nyedhiyakake area permukaan sing luwih gedhe.

Karakteristik materi utama kalebu:

Kekerasan lan tahan aus sing dhuwur banget
Stabilitas termal sing apik banget lan titik leleh sing dhuwur
Resistensi kimia sing unggul marang asam lan alkali
Transparansi optik sing dhuwur saka dawa gelombang UV nganti IR
Sifat insulasi listrik sing apik banget

Karakteristik iki ndadekake wafer safir 12 inci cocok kanggo lingkungan pangolahan sing atos lan proses manufaktur semikonduktor suhu dhuwur.

Proses Manufaktur

Produksi wafer safir 12 inci mbutuhake pertumbuhan kristal sing canggih lan teknologi pangolahan ultra-presisi. Proses manufaktur sing umum kalebu:

Pertumbuhan Kristal Tunggal
Kristal safir kanthi kemurnian dhuwur ditandur nggunakake metode canggih kayata KY utawa teknologi pertumbuhan kristal diameter gedhe liyane, kanggo njamin orientasi kristal sing seragam lan stres internal sing sithik.
Pembentukan lan Pengirisan Kristal
Ingot safir dibentuk kanthi presisi lan diiris dadi wafer 12 inci nggunakake peralatan pemotong kanthi akurasi dhuwur kanggo nyuda kerusakan ing sangisore permukaan.
Lapping lan Polishing
Proses lapping multi-langkah lan polesan mekanik kimia (CMP) diterapake kanggo entuk kekasaran permukaan, kerataan, lan keseragaman kekandelan sing apik banget.
Reresik lan Inspeksi
Saben wafer safir 12 inci ngalami pembersihan menyeluruh lan pemeriksaan ketat, kalebu kualitas permukaan, TTV, busur, lungsin, lan analisis cacat.

Aplikasi

Wafer safir 12 inci digunakake sacara wiyar ing teknologi canggih lan anyar, kalebu:

Substrat LED daya dhuwur lan padhange dhuwur
Piranti daya berbasis GaN lan piranti RF
Pembawa peralatan semikonduktor lan substrat insulasi
Jendhela optik lan komponen optik area amba
Kemasan semikonduktor canggih lan operator proses khusus

Diameter sing gedhe ndadekake throughput sing luwih dhuwur lan efisiensi biaya sing luwih apik ing produksi massal.

Kauntungan Wafer Safir 12 Inci

Area sing luwih gedhe kanggo output piranti sing luwih dhuwur saben wafer
Konsistensi lan keseragaman proses sing luwih apik
Biaya per piranti sing luwih murah ing produksi volume dhuwur
Kekuatan mekanik sing apik banget kanggo penanganan ukuran gedhe
Spesifikasi sing bisa disesuaikan kanggo macem-macem aplikasi

Pilihan Kustomisasi

Kita nawakake kustomisasi fleksibel kanggo wafer safir 12 inci, kalebu:

Orientasi kristal (bidang-C, bidang-A, bidang-R, lan liya-liyane)
Toleransi kekandelan lan diameter
Poles sisih siji utawa sisih loro
Profil pinggiran lan desain talang
Syarat kekasaran lan kerataan permukaan

Parameter	Spesifikasi	Cathetan
Diameter Wafer	12 inci (300 mm)	Wafer diameter gedhe standar
Bahan	Safir Kristal Tunggal (Al₂O₃)	Kemurnian dhuwur, kelas elektronik/optik
Orientasi Kristal	Pesawat C (0001), pesawat A (11-20), pesawat R (1-102)	Orientasi opsional kasedhiya
Kekandelan	430–500 μm	Kekandelan khusus kasedhiya miturut panyuwunan
Toleransi Kekandelan	±10 μm	Toleransi sing ketat kanggo piranti canggih
Variasi Ketebalan Total (TTV)	≤10 μm	Njamin pangolahan sing seragam ing wafer
Gandhewa	≤50 μm	Diukur ing sadawane wafer
Warp	≤50 μm	Diukur ing sadawane wafer
Rampungan Permukaan	Dipoles sisih siji (SSP) / Dipoles sisih loro (DSP)	Permukaan kualitas optik dhuwur
Kekasaran Permukaan (Ra)	≤0.5 nm (dipoles)	Kehalusan tingkat atom kanggo pertumbuhan epitaksial
Profil Tepi	Pinggir bunder/cekung	Kanggo nyegah pecah nalika ditangani
Akurasi Orientasi	±0.5°	Njamin pertumbuhan lapisan epitaksial sing tepat
Kapadhetan Cacat	<10 cm⁻²	Diukur nganggo inspeksi optik
Kerataan	≤2 μm / 100 mm	Njamin litografi sing seragam lan pertumbuhan epitaksial
Karesikan	Kelas 100 – Kelas 1000	Kompatibel karo kamar resik
Transmisi Optik	>85% (UV–IR)	Gumantung saka dawa gelombang lan kekandelan

Pitakonan sing Sering Diajokake Babagan Wafer Safir 12 Inci

P1: Pira kekandelan standar wafer safir 12 inci?
A: Kekandelan standar antara 430 μm nganti 500 μm. Kekandelan khusus uga bisa diprodhuksi miturut kabutuhan pelanggan.

P2: Orientasi kristal apa sing kasedhiya kanggo wafer safir 12 inci?
A: Kita nawakake orientasi C-plane (0001), A-plane (11-20), lan R-plane (1-102). Orientasi liyane bisa disesuaikan adhedhasar kabutuhan piranti tartamtu.

P3: Pira variasi kekandelan total (TTV) saka wafer kasebut?
A: Wafer safir 12 inci biasane duwe TTV ≤10 μm, sing njamin keseragaman ing kabeh permukaan wafer kanggo fabrikasi piranti sing berkualitas tinggi.

Babagan Kita

XKH spesialisasi ing pangembangan teknologi tinggi, produksi, lan dodolan kaca optik khusus lan bahan kristal anyar. Produk kita nyedhiyakake elektronik optik, elektronik konsumen, lan militer. Kita nawakake komponen optik Safir, tutup lensa ponsel, Keramik, LT, Silicon Carbide SIC, Kuarsa, lan wafer kristal semikonduktor. Kanthi keahlian sing trampil lan peralatan canggih, kita unggul ing pangolahan produk non-standar, kanthi tujuan dadi perusahaan teknologi tinggi bahan optoelektronik sing unggul.